等離子體放電過程中產(chǎn)生的臭氧的基本原理是含氧氣體在放電反應(yīng)器內(nèi)所形成的低溫等離子體氛圍中，等離子體功能化二氧化鉿一定能量的自由電子將氧分子分解成氧原子之后通過三體碰撞反應(yīng)成臭氧分子，同時也發(fā)生著臭氧的分解反應(yīng)。所以大家才會聞到臭味，但是等離子清洗機(jī)的產(chǎn)生的臭氧的量是十分微小的，對人體是毫無傷害的。
等離子處理可以大大地增加粘合潤濕面積。二、金屬表面去油及清潔金屬表面常常會有油脂、油污等有機(jī)物及氧化層，等離子體功能化二氧化鉿在進(jìn)行濺射、油漆、粘合、健合、焊接、銅焊和PVD、CVD涂覆前，需要用等離子處理來得到完全潔凈和無氧化層的表面。
70年代以來，等離子體放電原理與材料處理下載低氣壓等離子體發(fā)生器對非金屬固體（如玻璃、紡織品、塑料等）的表面處理及改性技術(shù)也有迅速發(fā)展。 等離子發(fā)生器的主要工作原理是將低電壓通過升壓電路升至正高壓及負(fù)高壓，利用正高壓及負(fù)高壓電離空氣（主要是氧氣）產(chǎn)生大量的正離子及負(fù)離子，負(fù)離子的數(shù)量大于正離子的數(shù)量（負(fù)離子的數(shù)量大約為正離子數(shù)量的1.5倍 ）。
適合大批量生產(chǎn)，等離子體功能化二氧化鉿對生產(chǎn)環(huán)境要求不高。表面等離子體處理裝置（等離子體清潔器）是一種激發(fā)電源以將氣體電離成等離子體狀態(tài)的裝置。等離子體作用于產(chǎn)品表面，清洗產(chǎn)品表面的污染物，提高其表面活性。增加其粘合強(qiáng)度。等離子清洗是一種新型、環(huán)保、高效、穩(wěn)定的表面處理方法。手機(jī)行業(yè)：主軸、中框、后蓋表面清潔活化。印刷電路板/FPC行業(yè)：鉆孔污染和表面清潔，Coverlay表面粗糙化和清潔。
等離子體功能化二氧化鉿
（2）物理反應(yīng)等離子體中的離子主要作為純物理沖擊去除物體表面的原子和物體表面沉淀的原子。壓強(qiáng)較低時，離子的平均自由基較輕，存在能場積累。
如果您有更多等離子表面清洗設(shè)備相關(guān)問題，歡迎您向我們提問（廣東金徠科技有限公司）
通常氧化層的絕緣擊穿是在高電壓下瞬時發(fā)生的，而實際上，即使所加電壓低于臨界擊穿電場，經(jīng)過一段時間后也會發(fā)生擊穿，這就是氧化層的經(jīng)時擊穿。大量實驗表明，這類擊穿與外加應(yīng)力和時間有密切關(guān)系。在HKMG技術(shù)中，柵極電介質(zhì)由high-k材料氧化鉿代替原先的氧化硅，GOI就改稱為GDI(Gate Dielectric Integrity)。
等離子體放電原理與材料處理下載
