是他給出了等離子體表面處理的概念（點(diǎn)擊查看詳情）、等離子體的定義和名稱&ldquo；血漿&rdquo；指出了研究等離子體的實(shí)驗(yàn)和理論方法。首先用探針對(duì)等離子體參數(shù)進(jìn)行診斷。20世紀(jì)30年代，親水性礦物的概念等離子體表面處理成為研究對(duì)象，當(dāng)時(shí)對(duì)等離子體研究的興趣主要與氣體放電儀器（汞弧整流器、氣體二極管、三極管[閘流管]、齊納二極管）的發(fā)展有關(guān)。
這提高了硅片的利用效率。濕法刻蝕系統(tǒng)是通過(guò)化學(xué)刻蝕液與被刻蝕物體之間的化學(xué)反應(yīng)將材料剝離的刻蝕方法。大多數(shù)濕法蝕刻系統(tǒng)是各向同性蝕刻，親水性礦物的概念不易控制。特點(diǎn)：適應(yīng)性強(qiáng)，表面均勻，對(duì)硅片損傷小，幾乎適用于所有金屬、玻璃、塑料等材料。缺點(diǎn)：繪圖的保真度不理想，難以把握繪圖的最小線。濕法蝕刻是通過(guò)將蝕刻溶液浸入蝕刻溶液中進(jìn)行蝕刻的技術(shù)。簡(jiǎn)而言之，就是初中化學(xué)課上化學(xué)溶液蝕刻的概念，是純化學(xué)蝕刻，選擇性極好。
1、常壓空氣等離子清洗機(jī)的清潔基本概念是給它連接氣體與能量轉(zhuǎn)換，親水性礦物黏粒的組成是空氣壓力作到0.2mpa上下、與足夠的能量轉(zhuǎn)換，通俗性來(lái)講則是高頻率髙壓產(chǎn)生等離子。再借助等離體子體轟擊被清潔的產(chǎn)品表面，以作到清潔功效。空氣型等離子清洗機(jī)的優(yōu)點(diǎn)是都可以快速的實(shí)現(xiàn)大批量生產(chǎn)。
由于等離子體處理的目的是對(duì)表面進(jìn)行修飾或在表面形成一層合成材料，親水性礦物的概念因此等離子體與材料之間的相互作用以及最終反應(yīng)產(chǎn)物的形成是整個(gè)過(guò)程中最重要的問(wèn)題。每個(gè)等離子體處理過(guò)程都被限制在一個(gè)多維室中。反應(yīng)室的大小決定了整個(gè)工藝的經(jīng)濟(jì)性、反應(yīng)質(zhì)量、反應(yīng)性能等參數(shù)，使該工藝具有競(jìng)爭(zhēng)力和工業(yè)應(yīng)用價(jià)值。
親水性礦物的概念
在印刷大幅面薄膜時(shí)，因?yàn)樯傻撵o電多，在機(jī)速高、樹脂中未摻有抗靜電劑的情況下，很可能引起火災(zāi)或爆炸事故。塑料薄膜的靜電形成是因?yàn)镻E和PP具有優(yōu)良的介電功能、電阻高、導(dǎo)電性差，薄膜在擠出收卷進(jìn)程中因摩擦而發(fā)生靜電，在印刷進(jìn)程中使靜電進(jìn)一步發(fā)生和堆集，并不易釋放，使薄膜表面聚積很多的靜電荷。印刷薄膜收卷后，薄膜與薄膜之間緊緊地卷在一起，使電荷不利于排擠而利于吸引，造成粘合。。
在正向電壓下，這些半導(dǎo)體材料在 LED pn 結(jié)中，電流從 LED 陽(yáng)極流向陰極，注入的少數(shù)載流子在與多數(shù)載流子復(fù)合時(shí)以光的形式發(fā)射出多余的能量。半導(dǎo)體晶體可以發(fā)出從紫外線到紅外線的各種顏色的光。它的波長(zhǎng)和顏色是由構(gòu)成pn結(jié)的半導(dǎo)體材料禁帶的能量決定的，光的強(qiáng)度與電流有關(guān)?；窘Y(jié)構(gòu)：簡(jiǎn)單來(lái)說(shuō)，LED可以看成是電致發(fā)光半導(dǎo)體材料芯片的一部分，引線鍵合后用環(huán)氧樹脂將其周圍密封。
這從磁場(chǎng)能量改變的視點(diǎn)能夠很容易了解，電流發(fā)生改變時(shí)，磁場(chǎng)能量發(fā)生改變，可是不可能發(fā)生能量躍變，體現(xiàn)出電感特性。寄生電感會(huì)推遲電容電流的改變，電感越大，電容充放電阻抗就越大，電源完整性反應(yīng)時(shí)間就越長(zhǎng)。自諧振頻率點(diǎn)是區(qū)別電容是容性仍是感性的分界點(diǎn)，高于諧振頻率時(shí)，“電容不再是電容”，因而退耦效果將下降。
下邊講解等離子設(shè)備的清潔原理：1、等離子設(shè)備清洗后的工件送入真空等離子清洗機(jī)的空腔并固定，啟動(dòng)操作裝置，開始排氣，使真空室的真空度達(dá)到標(biāo)準(zhǔn)的10帕，通常排放時(shí)間約為幾十秒。對(duì)等離子體進(jìn)行未經(jīng)化學(xué)處理的任何一種表面改性方法，稱為干蝕。在等離子蝕刻過(guò)程中，所有等離子清洗的產(chǎn)品都是干腐蝕的。等離子體腐蝕類似于等離子體清潔。
親水性礦物的概念
為了實(shí)現(xiàn)物質(zhì)從致密聚集態(tài)到分散聚集態(tài)的轉(zhuǎn)變，親水性礦物黏粒的組成是必須提供額外的動(dòng)能來(lái)破壞原始粒子之間更大的結(jié)合能。類似地，當(dāng)物質(zhì)處于氣態(tài)時(shí)，電暈等離子體處理器繼續(xù)提供動(dòng)能以形成氣態(tài)物質(zhì)粒子，這些粒子被電離以形成等離子體。。電暈等離子處理器的歷史：等離子體于 1879 年被發(fā)現(xiàn)并于 1928 年被稱為“等離子體”，它是一種氣體、液體和固體。等離子體溫度可以分別表示為電子溫度和離子溫度。
引線粘污處理技術(shù)目前對(duì)引線粘污的處理方法主要采用的是紫外光清洗或者等離子體清洗，親水性礦物黏粒的組成是兩者在引線清洗中都有各自的適用性，具體的選擇需要根據(jù)具體的工藝確定。 由于濕法清洗會(huì)帶來(lái)環(huán)境污染和清洗過(guò)后的二次粘污，干法清洗在這方面具有明顯的優(yōu)勢(shì)。等離子體中活性粒子的“活化作用”能夠有效除 去物體表面的沾污物，從而達(dá)到清洗的目的，這就是等離子體清洗。
