在真空等離子設(shè)備的清洗過程中，真空活化機(jī)除了形成低溫等離子體的化學(xué)變化外，低溫等離子體還與原料表面形成物理反應(yīng)。低溫等離子體粒子可以將原料表面或原料附著表面的原子敲掉，有利于清洗蝕刻反應(yīng)。
它們也可以被原子結(jié)構(gòu)的力學(xué)所操縱表面基板的損壞。這些表面基團(tuán)后來可能參與表面反應(yīng)和成鍵。真空等離子體處理是一種低溫工藝，真空活化機(jī)作用一般為40~120C，可以避免熱損傷。這個過程產(chǎn)生一個熱自由表面激活反應(yīng)，它不會在大氣壓力下發(fā)生，這取決于分子的化學(xué)成分。這些獨特的特性可以為材料和產(chǎn)品開辟新的可能性。等離子體處理是在一個受控的環(huán)境中，在一個密封的腔室中進(jìn)行，引入選定的氣體，以保持腔室處于中等真空，通常為13至65Nm2。
研究了氧等離子體和空氣等離子體(頻率13.56mhz，真空活化機(jī)作用真空度1TORr，充放電輸出功率100 W)處理棉織物芯吸收性能與工藝標(biāo)準(zhǔn)的關(guān)系。對棉織物進(jìn)行大氣等離子清洗60秒，氧等離子處理30秒。棉織物的脫蠟、脫漿效果(果)達(dá)到了正常沸騰漂白的程度。
其基本原理是在真空低壓下，真空活化機(jī)ICP射頻電源向環(huán)形耦合線圈產(chǎn)生有一定份額的射頻輸出通過耦合輝光放電腐蝕氣體混合,高密度等離子體,我電極射頻等離子體的作用下在襯底表面進(jìn)行炮擊,襯底圖形區(qū)域半導(dǎo)體材料的化學(xué)鍵被中斷,和蝕刻氣體生成的揮發(fā)性物質(zhì),以氣體的形式從襯底,遠(yuǎn)離真空管。蝕刻機(jī)與光刻機(jī)的區(qū)別蝕刻比光刻容易。光刻機(jī)打印圖片，蝕刻機(jī)從打印的圖片上切下有(或沒有)圖片的部分，剩下的部分留下。。
真空活化機(jī)
