通常認(rèn)為甲烷在等離子體發(fā)生器條件下以兩種方式產(chǎn)生乙炔： 1. CH自由基偶聯(lián)反應(yīng)； 2. C2H6和C2H4的脫氫反應(yīng)。如果體系中CO2濃度繼續(xù)升高，特氟龍plasma活化機(jī)會(huì)消耗大量高能電子，C2H6、C2H4與高能電子碰撞的概率會(huì)不斷降低，進(jìn)而發(fā)生脫氫反應(yīng)。受阻，C2H4 的產(chǎn)生量進(jìn)一步減少。因此，隨著體系中CO2濃度的增加，C2H6和C2H4的摩爾分?jǐn)?shù)趨于增加，C2H2的摩爾分?jǐn)?shù)減小。

達(dá)因值越低，特氟龍plasma表面清洗機(jī)器物體的表面能越低，等離子處理后的達(dá)因值越高，物體的表面能越高，表面能越高，吸附效果越好，鍵合效果越好。更好的涂層。效果；2。水滴角測(cè)試（測(cè)量水滴角（接觸角））可以反映等離子體是否影響產(chǎn)品加工。目前，業(yè)界對(duì)等離子清洗效果的評(píng)價(jià)。測(cè)試數(shù)據(jù)準(zhǔn)確、操作簡(jiǎn)便、重現(xiàn)性高、穩(wěn)定性好。等離子清洗前： 等離子清洗后：通過(guò)等離子處理去除油污和表面粗糙度。

..由于空氣污染和酸化，特氟龍plasma活化機(jī)生態(tài)環(huán)境遭到破壞，大規(guī)模災(zāi)害頻發(fā)，人類損失慘重。因此，選擇經(jīng)濟(jì)可行的解決方案勢(shì)在必行。傳統(tǒng)的吸附、吸附、冷凝、燃燒等分解揮發(fā)性有機(jī)污染物（VOCs）的處理方法等低溫等離子技術(shù)在氣態(tài)污染物治理方面具有顯著優(yōu)勢(shì)。其基本原理是在電場(chǎng)的加速作用下產(chǎn)生高能電子。當(dāng)電子的平均能量超過(guò)目標(biāo)物質(zhì)分子的化學(xué)鍵能時(shí)，分子鍵斷裂，達(dá)到去除的目的。氣態(tài)污染物。傳統(tǒng)意義上的等離子體是具有大量電離的中性氣體。

-PLASMA等離子表面處理機(jī)應(yīng)用場(chǎng)景三大方面概述-PLASMA等離子表面處理機(jī)的應(yīng)用場(chǎng)景主要概括為三個(gè)方面。 1. PLASMA等離子表面處理機(jī)提高合金金屬外表面的粗糙度。低溫等離子表面后的德布羅意波轉(zhuǎn)換器用于金屬材料加工，特氟龍plasma表面清洗機(jī)器原材料表面附著力可滿足62DAIN以上要求，可用于附著、噴漆、印刷等多種加工工藝。 , 也可以對(duì)應(yīng)靜電去除效果。提高合金金屬表皮的耐腐蝕性。

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此外，這些難清洗部位的清洗效果等同于或優(yōu)于氟利昂清洗。五。等離子清洗可用于顯著提高清洗效率。整個(gè)清洗過(guò)程可在幾分鐘內(nèi)完成，其特點(diǎn)是良率高。 6、等離子清洗需要控制的真空度在100PA左右，這個(gè)清洗條件很容易達(dá)到。因此，該設(shè)備的設(shè)備成本不高，整體成本低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝，因?yàn)樵撉逑垂に嚥恍枰褂冒嘿F的有機(jī)溶劑。 7.等離子清洗通過(guò)清洗液的輸送、儲(chǔ)存、排水等處理方式，可以輕松保持生產(chǎn)現(xiàn)場(chǎng)的清潔衛(wèi)生。

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