等離子表面處理設(shè)備去除表面污染物用什么氣體？等離子表面處理機在清洗過程中配合不同的氣體，其清洗殘留物臟污效果也有很大差異。其中常用的一種氣體是惰性氣體氬氣(Ar)，真空設(shè)備清洗過程中與氬氣配合往往能有效地去除表面納米級污染物。
等離子表面處理機，若要加強蝕刻作用，可以通入氧氣(O2)，可以有效地去除有機污染物，例如光刻膠等。還有些氫氣(H2)可與其他較難去除的氧化物結(jié)合使用，一般會選擇氫氮混合氣體(95%的氮和5%的氫氣結(jié)合)。
使用為廣泛的氣體是氮(N2)，其生產(chǎn)成本低。該氣體主要與在線式等離子表面處理機技術(shù)相結(jié)合，用于材料的表面活化改性。在真空環(huán)境下也能使用。氮(N2)是改善材料表面浸潤性能很好的氣體。
此外，還存在與四氟化碳(CF4)、六氟化硫(SF6)等類似的特殊氣體，等離子表面處理機使用這些氣體對有機物的蝕刻和去除作用更為顯著。但是這些氣體的使用前提是必須具有很好的防腐蝕的氣路結(jié)構(gòu)，另外自身必須戴上防護罩和手套才能正常工作，雖然說不會有什么危險但是防護還是要做足的。等離子表面處理設(shè)備去除表面污染物用什么氣體？00224762